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白光干涉仪精度趋于同质化大视场 表征能力成为关键突破点

随着光学干涉元器件与算法迭代，市面主流白光干涉仪（White Light Interferometer, WLI）在小视场条件下的垂直测量精度已趋于同质化，均可实...

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USI 白光扫描：多层微纳工件形貌检测数据异常（Data A...

透明金属叠层结构（Transparent-Metal Stack Structure）微纳形貌失真原理溯源本文基于设备原厂手册及公开招标资料，分析通用扫描干涉（U...

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芯片立体架构器件 (3D Architecture Devi...

在先进半导体三维集成工艺中，芯片立体架构器件（3D Architecture Device）的纳米级微观表面粗糙度，是决定器件电学指标（Electrical In...

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USI 白光扫描：多层微纳工件形貌检测数据异常（Data A...

一、概述本文基于设备原厂手册及公开技术资料，针对半导体低反透明介质/高反金属基底复合结构，剖析USI（通用扫描干涉，Universal Scanning Inte...

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